该项目是将 ITO 废靶通过气流粉碎技术直接得到 1-2 微米的 ITO 粉末，然后配制高固含量低粘度的浆料，采用高效砂磨技术制得纳米级ITO 浆料，经过压力注浆成型技术得到高密度 ITO 靶材素坯，最后通过流动气氛活化烧结技术制得晶粒尺寸可控的 ITO 靶材。

该项目目前可以制备出平板显示用高性能大尺寸（1010～1200*200*8mm）ITO 溅射靶材，各项性能均达到日韩 ITO 靶材标准，具有 99.7%高的相对密度、4N5 的纯度、1.50×10-4Ω·cm 的电阻率。

5 项专利

已具备工业化开发条件

实现了大尺寸 ITO 靶材制备关键技术突破，直接打破了国外技术壁垒。为我国建立了 ITO 靶材制备新型工艺流程，并形成完善的全流程工艺装备体系及控制标准，并实现技术指标达到国际先进水平。

智能手机、智能家居、平板电脑、智能车载设备、太阳能电池等

技术转让

成果转化与科技合作部：庆老师 0371-67782821